Principais requisitos de desempenho de alvos de pulverização
Pureza de alvos de pulverização
A pureza é um dos principais índices de desempenho do alvo, pois a pureza do material alvo tem grande influência no desempenho do filme. No entanto, em aplicações práticas, os requisitos de pureza dos materiais alvo também são diferentes.
Teor de impureza dos alvos de pulverização
As impurezas no sólido e o vapor de oxigênio e água nos poros são as principais fontes dos filmes depositados. Alvos diferentes possuem requisitos diferentes para diferentes teores de impurezas. Por exemplo, alvos de alumínio puro e liga de alumínio usados na indústria de semicondutores têm requisitos especiais para o conteúdo de metais alcalinos e elementos radioativos.
Densidade de alvos de pulverização
A fim de reduzir a porosidade no sólido do alvo e melhorar o desempenho do filme pulverizado, geralmente é necessário que o alvo tenha alta densidade. A densidade do alvo não afeta apenas a taxa de sputtering, mas também afeta as propriedades elétricas e ópticas dos filmes. Quanto maior a densidade do alvo, melhor o desempenho do filme. Além disso, aumentar a densidade e a força do alvo permitirá que o alvo resista melhor ao estresse térmico durante a pulverização. A densidade também é um dos principais indicadores de desempenho dos alvos.
Tamanho do grão e distribuição granulométrica de alvos de pulverização
Normalmente, o alvo é a estrutura policristalina, e o tamanho do grão pode ser de mícron a milímetro. Para o mesmo alvo, a taxa de sputtering do alvo com granulação fina é mais rápida do que a do alvo com grão grosso, e a distribuição da espessura do filme depositado pelo alvo com pequena diferença de tamanho de grão (distribuição uniforme) é mais uniforme.
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