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Aplicação do alvo no revestimento a vácuo

Oct 18, 2019

Com o desenvolvimento dos tempos, para atender aos requisitos de segurança, economia de energia, redução de ruído e redução de emissão de poluentes, o revestimento a vácuo tornou-se uma nova tendência de proteção ambiental no processo de tratamento de superfície. Diferente da galvanoplastia geral, o revestimento a vácuo é mais ecológico. Ao mesmo tempo, o revestimento a vácuo pode produzir um bom efeito de brilho preto que não pode ser alcançado por galvanoplastia comum.

O revestimento a vácuo é basicamente um fenômeno de deposição física, ou seja, o argônio é injetado no alvo no estado de vácuo, e o alvo é separado em moléculas que são adsorvidas por produtos condutores para formar uma camada superficial uniforme e lisa. No processo de galvanoplastia, o alvo é muito importante. Quais são as aplicações do alvo no processo de revestimento a vácuo? Hoje, o editor Sifeng lhe dará uma introdução detalhada.

Em geral, a aplicação de alvos no revestimento a vácuo possui as seguintes características:

(1) metal, liga ou isolador podem ser transformados em material de filme.

(2) sob condições de ajuste apropriadas, alvos múltiplos e complexos podem ser transformados no mesmo filme.

(3) a mistura ou composto da substância alvo e da molécula de gás pode ser feita adicionando oxigênio ou outros gases ativos à atmosfera de descarga.

(4) a corrente de entrada e o tempo de pulverização do alvo podem ser controlados e a espessura do filme de alta precisão pode ser facilmente obtida.

(5) em comparação com outros processos, é mais vantajoso produzir filmes homogêneos em grandes áreas.

(6) as partículas pulverizadas não são afetadas pela gravidade, e a posição do alvo e do substrato pode ser organizada livremente.

(7) a resistência de adesão entre o substrato e o filme é mais de 10 vezes a do revestimento de evaporação geral e, devido à alta energia das partículas pulverizadas, o filme duro e denso continuará a se difundir na superfície de formação de filme, ao mesmo tempo, a alta energia produz o substrato desde que a temperatura mais baixa possa obter o filme cristalino.


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