Alvo de Molibdênio

Descrição:

Sputtering é uma tecnologia avançada para a preparação de materiais de película fina. Ele usa íons gerados por fontes de íons para acelerar o acúmulo de correntes iônicas de alta velocidade no vácuo, bombardeia a superfície sólida e troca energia cinética entre os íons e os átomos na superfície sólida, de forma que os átomos na superfície sólida saem do alvo e depositar na superfície do substrato, formando filmes nano ou mícron. O sólido que foi bombardeado era a matéria-prima do filme fino crepitante, chamado de alvo de pulverização. O alvo de obturação é um novo tipo de produto aplicado à Deposição Física de Vapor (PVD).

Nome 1.Product: Alvo do molibdênio

2.Metaril: Mo

3. Pureza: 99,9%

Alvo 4.Plate: Peso: ≤200kg / pc, comprimento: ≤Φ165mmΧ1000mm

A meta de aplicação de molibdênio

1 、 monitores de tela plana

Indústria do vidro 2 (inclua o vidro arquitectónico, o vidro de automóvel, o vidro óptico da película)

3 células solares

4 、 Engenharia de superfície

5 、 suporte de gravação

6 、 Microeletrônica

7 、 luzes de automóveis e revestimento decorativo, etc.

Os alvos de sputtering de molibdênio que podemos fornecer são os seguintes

Serviço de embalagem: O produto é envolvido por uma almofada de espuma e a embalagem externa é embalada em caixas de madeira. Apoiamos embalagens de exportação profissional

Serviço de entrega: de acordo com as necessidades do cliente. Nós geralmente transporte por UPS, DHL ect.

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