Você entende Supttering Target

Principais requisitos de desempenho do material Supttering Target:

Pureza
A pureza é um dos principais indicadores de desempenho do material Supttering Target, porque a pureza do material alvo tem uma grande influência no desempenho do filme. No entanto, em aplicações práticas, os requisitos de pureza dos materiais alvo são diferentes.
Conteúdo de impureza
Impurezas nos sólidos alvo e oxigênio e água nos estômatos são as principais fontes de poluição dos filmes finos depositados. Metas para fins diferentes têm requisitos diferentes para diferentes conteúdos de impurezas. Por exemplo, alvos de alumínio puro e liga de alumínio usados na indústria de semicondutores têm requisitos especiais para o conteúdo de metais alcalinos e elementos radioativos.
Densidade
A fim de reduzir a porosidade no sólido do alvo e melhorar o desempenho do filme pulverizado, geralmente é necessário que o alvo tenha uma alta densidade. A densidade alvo não afeta apenas a taxa de sputtering, mas também afeta as propriedades elétricas e ópticas dos filmes. Quanto maior a densidade alvo, melhores as propriedades dos filmes. Além disso, aumentar a densidade e a força do alvo pode fazer com que o alvo resista melhor ao estresse térmico no processo de sputtering. A densidade também é um dos principais indicadores de desempenho dos materiais alvo.
Tamanho do grão e distribuição do tamanho do grão
Normalmente, o material alvo é policristalino e o tamanho do grão pode variar de mícron a milímetro. Para o mesmo alvo, a taxa de sputtering do alvo com granulação fina é mais rápida do que a do alvo com grão grosso, e a distribuição da espessura do filme depositado pelo alvo com pequena diferença de tamanho de grão (distribuição uniforme) é mais uniforme.

Nossa empresa tem muitos anos de experiência na produção e venda de alvo de molibdênio, alvo de titânio, alvo de tântalo e alvo de nióbio e tem sido altamente elogiado por clientes europeus e americanos.

Embalagem

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